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ASML indique que les masques photolithographiques de 12 pouces pourraient améliorer l’efficacité et réduire les coûts des usines de fabrication de wafers

ASML indique que les masques photolithographiques de 12 pouces pourraient améliorer l’efficacité et réduire les coûts des usines de fabrication de wafers

智通财经智通财经2026/09/08 06:26
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ASML (ASML.US) : La transition vers des masques photolithographiques de 12 pouces de plus grande taille devrait améliorer davantage l’efficacité de production des usines de wafers, réduire les coûts de fabrication des puces et éliminer les contraintes liées à l’assemblage.
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