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JX Advanced Metals erhöht die Kapazität für magnetische Sputter-Targets und strebt bis Mitte 2029 das 1,5-fache des Niveaus von 2025 an.

JX Advanced Metals erhöht die Kapazität für magnetische Sputter-Targets und strebt bis Mitte 2029 das 1,5-fache des Niveaus von 2025 an.

BitgetBitget2026/09/29 09:06
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  • JX Nippon Mining & Metals wird die Produktionskapazität für magnetische Sputtertargets, die in Festplattenmedien verwendet werden, weiter ausbauen.
  • Die Planung sieht bis Mitte 2029 eine Erhöhung um das 1,5-Fache im Vergleich zum Kapazitätsniveau 2025 vor, einschließlich einer am 11. Juni 2026 angekündigten Erweiterung.
  • Die Investition spiegelt die steigende Nachfrage nach Datenspeicher in Rechenzentren wider, die mit generativer KI, Cloud-Diensten und anhaltenden Wachstumsprognosen für HDDs zusammenhängt.
  • Der Kapazitätsausbau positioniert das Unternehmen zudem für Technologiewechsel bei HDDs von PMR zu HAMR, was neue Medienmaterialien erfordert.


Disclaimer: Diese Kurzmeldung wurde von Public Technologies (PUBT) mithilfe generativer künstlicher Intelligenz erstellt. PUBT ist bemüht, genaue und aktuelle Informationen bereitzustellen; dennoch dient dieser von KI generierte Inhalt ausschließlich Informationszwecken und sollte nicht als Finanz-, Investitions- oder Rechtsberatung verstanden werden. JX Nippon Mining & Metals Corporation veröffentlichte die ursprünglichen Inhalte, auf deren Basis diese Meldung am 25. September 2026 erstellt wurde, und ist allein verantwortlich für die darin enthaltenen Informationen.

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Haftungsausschluss: Der Inhalt dieses Artikels gibt ausschließlich die Meinung des Autors wieder und repräsentiert nicht die Plattform in irgendeiner Form. Dieser Artikel ist nicht dazu gedacht, als Referenz für Investitionsentscheidungen zu dienen.

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